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高純氣體管道是高純氣體供氣系統(tǒng)的重要組成部分，是將符合要求的高純氣體送至用氣點仍保持質量合格的關鍵，包括系統(tǒng)的設計、管件及附件的選擇、施工安裝和試驗測試等內容。近年來以大規(guī)模集成電路為主的微電子產品生產對高純氣體的純度和雜質含量的日益嚴格的要求，使高純氣體的配...

工業(yè)集中供氣系統(tǒng)是一種現(xiàn)代化集中供氣，這種現(xiàn)代化的供氣方法得到了社會普遍認可，它是一種將氣源通過管路設計集中匯流到用氣點的現(xiàn)代化供氣設計；這種集中供氣方式很大地提高了效益，降低了人力資源的消耗并且安全美觀，氣體輸出更加的穩(wěn)定流暢；適用于氧氣、氬氣、二氧化碳、氫...

尾氣處理系統(tǒng)：半導體工藝廢氣處理方式依據(jù)廢氣處理的特性,在處理可分為四種處理方式:1、水洗式(處理腐蝕性氣體)2、氧化式(處理燃燒性,毒性氣體3、吸附式(干式)(依照吸附材種類處理對應之廢氣）4、等離子燃燒式(各類型廢氣皆可處理)Scrubber尾氣處理裝置可...

實驗室集中供氣系統(tǒng)操作原理:實驗室供氣有二級減壓和多級減壓，二級減壓即氣瓶端采用一級減壓閥和末端采用一級減壓閥來達到二級減壓的目的。實驗室一般推薦采用二級減壓，這樣可以保證氣體的純度和節(jié)約成本，也能達到多級減壓的效果(推薦)多級減壓即氣瓶端采用二級減壓閥或多級...

控制設備是特氣管道系統(tǒng)的“大腦中樞”，以氣體管理系統(tǒng)（GMS）為主，實現(xiàn)對全系統(tǒng)的實時監(jiān)視與智能調控。GMS通過各類傳感器實時采集儲存、輸送、分配各環(huán)節(jié)的壓力、流量、溫度、氣體濃度等關鍵參數(shù)，將數(shù)據(jù)匯總至控制平臺進行分析處理。當系統(tǒng)出現(xiàn)參數(shù)異?；驓怏w泄漏等情況...

集中供氣系統(tǒng)與氣瓶供氣相比的優(yōu)勢1、杜絕氣瓶留余壓的浪費，降低用氣成本。2、使用方便、操作簡單，減少頻繁換氣瓶的繁瑣勞動。3、液體密閉存儲，儲量大，質量穩(wěn)定。4、排除了氣瓶在使用和保管過程中的易發(fā)生的碰撞、氣帶磨損、安全間距等危險性。 工業(yè)集中供氣系...

廢氣處理特性半導體工藝中常使用的化學物質及其副產物,一般依照其化學特性與其不同的影響范圍,可分為:1.易燃性氣體如SiH4、H2等2.毒性氣體如AsH3、PH3等3.腐蝕性氣體如HF、HCl等4.溫室效應氣體如CF4、NF3等。由于以上四種氣體對環(huán)境或人體皆具...

監(jiān)測惰性、可燃性、有毒性氣體泄漏的監(jiān)測控制系統(tǒng)。系統(tǒng)基于開放的系統(tǒng)結構，具備與其他品牌的系統(tǒng)設備（平臺）通過工業(yè)標準通訊、平臺和協(xié)議實現(xiàn)集成和信息交換，協(xié)議包括MODBUS、TCP/IP和OPC。系統(tǒng)由安裝在現(xiàn)場的可燃/有毒氣體探測器和安裝在控制室內的控制單元...

對高純氣體純度要求不同的用氣設備，宜采用分等級高純氣體輸送系統(tǒng)；也可采用同等級輸送系統(tǒng)，但是在純度要求高的用氣設備鄰近處設末端氣體提純裝置。為了檢測高純氣體的純度和雜質含量，輸送系統(tǒng)除了設置必要的連續(xù)檢測儀器，如衡量水含量或者氧雜質含量等分析儀外，還應設置定期...

高純氣體管道輸送管道，要根據(jù)工藝過程對氣體純度、允許的雜質含量、微粒含量等的要求不同，采用相應質量的管材。比如半導體產業(yè)因其生產工藝復雜、加工精細，它不僅要求有潔凈的生產環(huán)境，而且對生產過程中所需的各種高純氣體有特定的、嚴格的要求，從微米技術進入亞微米、深亞微...

高純氣體管道的設計要點：1.對于不同特性的氣體，要規(guī)劃單獨的供應區(qū)域，一般分為三個區(qū)：腐蝕性/毒性氣體區(qū)、可燃性氣體區(qū)、惰性氣體區(qū)，將相同性質的氣體集中加強管理，可燃性氣體區(qū)要特別規(guī)劃防爆墻與泄漏口，若空間不足，可考慮將惰性氣體放置與毒性/腐蝕性氣體區(qū)。2.管...

特氣管道系統(tǒng)的設計與規(guī)模，直接反映了制造工廠的技術等級與產能。一條先進的12英寸晶圓產線，其特氣系統(tǒng)可能涉及數(shù)十種氣體、長達數(shù)公里的雙套管網絡、上百個VMB/VMP，投資巨大。它的穩(wěn)定運行，是保障納米級芯片制造工藝重復性、一致性的基礎，是工廠連續(xù)不停產的前提。...

根據(jù)用氣設備的分布情況，高純氣體的管網不宜過大或者過長；宜采用不封閉的環(huán)形管路，在系統(tǒng)末端連續(xù)不斷排放少量的氣體，以便在管網中總有高純氣體流通，不會發(fā)生“死空間”引起高純氣體的污染。管路中應減少不流動氣體的“死空間”，不應設有盲管，在特種氣體的儲氣瓶與用氣設備...

高純氣體管道的設計要點：1.對于不同特性的氣體，要規(guī)劃單獨的供應區(qū)域，一般分為三個區(qū)：腐蝕性/毒性氣體區(qū)、可燃性氣體區(qū)、惰性氣體區(qū)，將相同性質的氣體集中加強管理，可燃性氣體區(qū)要特別規(guī)劃防爆墻與泄漏口，若空間不足，可考慮將惰性氣體放置與毒性/腐蝕性氣體區(qū)。2.管...

不同類型的半導體芯片生產，對大宗特氣系統(tǒng)的配置需求存在明顯差異。例如，邏輯芯片制造過程中，蝕刻工藝需大量使用含氟特氣，系統(tǒng)需重點強化氟化物氣體的安全防護與腐蝕控制；存儲芯片生產則對沉積工藝用氣體的純度要求更高，需配備更精密的純化系統(tǒng)。因此，大宗特氣系統(tǒng)在設計之...

高純氣體管道的設計要點：1.對于不同特性的氣體，要規(guī)劃單獨的供應區(qū)域，一般分為三個區(qū)：腐蝕性/毒性氣體區(qū)、可燃性氣體區(qū)、惰性氣體區(qū)，將相同性質的氣體集中加強管理，可燃性氣體區(qū)要特別規(guī)劃防爆墻與泄漏口，若空間不足，可考慮將惰性氣體放置與毒性/腐蝕性氣體區(qū)。2.管...

尾氣處理系統(tǒng)：半導體工藝廢氣處理方式依據(jù)廢氣處理的特性,在處理可分為四種處理方式:1、水洗式(處理腐蝕性氣體)2、氧化式(處理燃燒性,毒性氣體3、吸附式(干式)(依照吸附材種類處理對應之廢氣）4、等離子燃燒式(各類型廢氣皆可處理)Scrubber尾氣處理裝置可...

大宗特氣系統(tǒng)的氣體存儲環(huán)節(jié)是保障持續(xù)供應的基礎。系統(tǒng)通常采用高壓氣瓶組、低溫儲罐等多種存儲方式，根據(jù)氣體的物理性質與用量需求進行選擇。對于用量較大的大宗氣體，如氮氣、氧氣等，多采用低溫儲罐存儲，能夠有效降低存儲成本，同時滿足大流量供應需求；對于特種氣體，則多采...

管路中應減少不流動氣體的“死空間”，不應設有盲管，在特種氣體的儲氣瓶與用氣設備之間應設吹掃控制裝置、多閥門控制裝置、用以控制各個閥門的開關順序、系統(tǒng)吹除，以確保供氣系統(tǒng)的安全、可靠運行和防止“死區(qū)”形成而滯留污染物，降低氣體純度。對高純氣體純度要求不同的用氣設...

工業(yè)氣體按組份可分為單一品種氣體的工業(yè)純氣和二元或多元氣體的工業(yè)混合氣。國家標準《瓶裝壓縮氣體分類》(GB16163-1996)中，根據(jù)工業(yè)純氣在氣瓶內的物理狀態(tài)和臨界溫度進行分類，并按其化學性能，燃燒性、毒性、腐蝕性進行分組。第1類為長久氣體，其臨界溫度〈-...

不同類型的半導體芯片生產，對大宗特氣系統(tǒng)的配置需求存在明顯差異。例如，邏輯芯片制造過程中，蝕刻工藝需大量使用含氟特氣，系統(tǒng)需重點強化氟化物氣體的安全防護與腐蝕控制；存儲芯片生產則對沉積工藝用氣體的純度要求更高，需配備更精密的純化系統(tǒng)。因此，大宗特氣系統(tǒng)在設計之...

根據(jù)用氣設備的分布情況，高純氣體的管網不宜過大或者過長；宜采用不封閉的環(huán)形管路，在系統(tǒng)末端連續(xù)不斷排放少量的氣體，以便在管網中總有高純氣體流通，不會發(fā)生“死空間”引起高純氣體的污染。管路中應減少不流動氣體的“死空間”，不應設有盲管，在特種氣體的儲氣瓶與用氣設備...

在半導體工廠的建設過程中，大宗特氣系統(tǒng)的建設周期與投資成本均占據(jù)較大比重。系統(tǒng)建設涉及設備采購、場地規(guī)劃、管道鋪設、安裝調試等多個環(huán)節(jié)，每個環(huán)節(jié)都需要嚴格把控質量與進度。由于特氣系統(tǒng)的專業(yè)性極強，建設過程中需要專業(yè)的設計團隊、施工團隊與監(jiān)理團隊協(xié)同配合，確保系...

管路中應減少不流動氣體的“死空間”，不應設有盲管，在特種氣體的儲氣瓶與用氣設備之間應設吹掃控制裝置、多閥門控制裝置、用以控制各個閥門的開關順序、系統(tǒng)吹除，以確保供氣系統(tǒng)的安全、可靠運行和防止“死區(qū)”形成而滯留污染物，降低氣體純度。對高純氣體純度要求不同的用氣設...

實驗室集中供氣系統(tǒng)操作原理:實驗室供氣有二級減壓和多級減壓，二級減壓即氣瓶端采用一級減壓閥和末端采用一級減壓閥來達到二級減壓的目的。實驗室一般推薦采用二級減壓，這樣可以保證氣體的純度和節(jié)約成本，也能達到多級減壓的效果(推薦)多級減壓即氣瓶端采用二級減壓閥或多級...

面對種類繁多的特氣，系統(tǒng)的材質選擇與設計需“量氣而定”。對于腐蝕性極強的氣體如Cl2、HCl，需選用耐蝕的哈氏合金；對于易自燃的SiH4，系統(tǒng)需徹底排除空氣，并配備自燃抑制劑或緊急排放燃燒裝置；對于毒性氣體如砷烷、磷烷，其雙套管負壓要求更高，排氣必須接入專門用...

特種氣體采用單獨氣源，多用點采用VMB或VMP分路供應，VMB或VMP采用支路氣動閥，氮氣吹掃，真空輔助排空等。由于系統(tǒng)氣源總量大，多采用單獨的氣體房，單獨的抽風系統(tǒng)除了簡單的供氣系統(tǒng)以外，特氣房一般都單獨于主場房而單獨建設，其規(guī)劃時需考慮建筑物的防火、泄爆、...

上海杰瑞斯特機電工程技術有限公司是一家專業(yè)從事高純度供應系統(tǒng)工程的企業(yè)，致力于為先進制造業(yè)的高科技企業(yè)提供高純工藝系統(tǒng)的一體化解決方案，為客戶提供大宗氣體系統(tǒng)、電子特氣系統(tǒng)、實驗室氣路系統(tǒng)、工業(yè)集中供氣系統(tǒng)、潔凈氣體管道、Local Scrubber尾氣處理系...

廢氣處理特性半導體工藝中常使用的化學物質及其副產物,一般依照其化學特性與其不同的影響范圍,可分為:1.易燃性氣體如SiH4、H2等2.毒性氣體如AsH3、PH3等3.腐蝕性氣體如HF、HCl等4.溫室效應氣體如CF4、NF3等。由于以上四種氣體對環(huán)境或人體皆具...

面對種類繁多的特氣，系統(tǒng)的材質選擇與設計需“量氣而定”。對于腐蝕性極強的氣體如Cl2、HCl，需選用耐蝕的哈氏合金；對于易自燃的SiH4，系統(tǒng)需徹底排除空氣，并配備自燃抑制劑或緊急排放燃燒裝置；對于毒性氣體如砷烷、磷烷，其雙套管負壓要求更高，排氣必須接入專門用...