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靶材可以調(diào)整角度嗎?為什么需要這個功能?

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科睿設(shè)備有限公司2026-03-11

可以。該設(shè)備的靶不僅可以與樣品距離可調(diào),還可以在30度角度內(nèi)擺頭。這個功能被稱為“離軸濺射”或“傾斜濺射”。它的主要作用是: ? 改善薄膜均勻性:通過調(diào)整入射角度,可以補償因幾何位置造成的膜厚不均勻。 ? 減少反濺射損傷:對于一些對離子轟擊敏感的材料,傾斜濺射可以避免高能粒子直接轟擊生長中的薄膜,減少缺陷。 ? 制備特殊結(jié)構(gòu):可以實現(xiàn)某些特定微結(jié)構(gòu)的生長,例如傾斜柱狀結(jié)構(gòu)。

科睿設(shè)備有限公司
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簡介:公司主營紫外光刻、磁控濺射等前沿儀器,為納米與薄膜材料研究提供專業(yè)解決方案,助力中國科技飛速成長。
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科睿設(shè)備磁控濺射
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