科睿設備有限公司2026-03-05

直流電源 (DC)：結構相對簡單，主要用于濺射導電性良好的材料（如純金屬、合金）。射頻電源 (RF)：可以濺射包括導電、半導體以及絕緣體（陶瓷）在內的幾乎所有材料。它通過高頻交變電場避免電荷積累（即消除“靶中毒”效應），是制備氧化物等功能薄膜的必需配置。您的設備同時配備了RF和DC電源，使其能處理從簡單金屬到復雜氧化物、絕緣體等多種材料的制備，適用性很廣。

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